På det nylige "SSLCHINA 2021: Mini / Micro LED Technology Industry Application Forum", delte Hu Jianzheng, direktør for MOCVD Process Technology of China Micro Semiconductor Equipment (Shanghai) Co., Ltd., Prismo UniMax® MOCVD-udstyr, der bruges til blå og grøn MiniLED-produktion af China Micro Semiconductors (Shanghai) Co., Ltd. Den seneste udvikling.
Hu Jianzheng indført, at sammenlignet med traditionelle lysdioder, der anvendes til belysning, Mini / Micro LED epitaxial wafers har strengere krav til bølgelængde ensartethed og partikel nummer. Det er nødvendigt at udvikle en ny MOCVD-platform for at forbedre bølgelængde ensartetheden af epitaxial wafers og reducere partikler. Mængde, således at realisere den kommercielle anvendelse af Mini / Micro LED.
Den nyeste MOCVD platform Prismo UniMax® udviklet af China Microelectronics, der kan bruges til masseproduktion af MiniLEDs, gennem finjustering af lokale temperaturfelt og optimering af flowfeltet, de blågrønne lysdioder dyrket på 4 "og 6" substrater har opnået gode resultater.的wavelength ensartethed. Under betingelse af 41×4" konfiguration er bølgelængden i og mellem den blå LED-chip også meget høj, henholdsvis 0,71 nm og 0,87 nm (1σ); under forudsætning af 10×6" konfiguration er bølgelængden af den blå LED-chip ensartet Ydelsen når 0,84 nm (1σ), og den maksimale og minimale forskel i bølgelængden af den 100 mm×100 mm firkantede plade er så lav som 2,4nm. For 6-tommer grøn LED med en gennemsnitlig bølgelængde på 530nm, on-chip bølgelængde ensartethed er 1.04nm (1σ), og den maksimale og minimale forskel i bølgelængde af 100mm×100mm kvadrat chip er kun 4.6nm.
Ifølge den officielle hjemmeside for China Microelectronics, med hensyn til konfiguration, Prismo UniMax® MOCVD udstyr har op til 4 reaktion kamre, som kan behandle 108 4-tommer eller 40 6-tommer højtydende gallium nitride-baserede blå-grønne MiniLED epitel wafers på samme tid. Justeringen kan udvides til at behandle 164 4-tommer eller 72 6-tommer epitaxial wafers på samme tid, og dens proces kapacitet kan også udvides til at vokse 8-tommer epitaxial wafers. Derudover er udstyret udstyret med en 785 mm grafitbakke med stor diameter, hvilket i høj grad forbedrer udstyrets produktionskapacitet og effektivt reducerer produktionsomkostningerne for MiniLED epitaxial wafers.
Det forlyder, at Prismo UniMax® MOCVD udstyr blev officielt frigivet i juni i år, og bruges hovedsageligt til masseproduktion af GaN-baserede MiniLED epitaxial wafers. December 9, Kina Microelectronics meddelte, at ordren på Prismo UniMax® MOCVD udstyr har overskredet 100 hulrum.
Det er underforstået, at China Micro Semiconductor Equipment Co, Ltd blev etableret i 2004 og har hovedkvarter i Shanghai. I 2019 blev det noteret på Science and Technology Innovation Board på Shanghai Stock Exchange. Det beskæftiger sig hovedsageligt med forskning og udvikling, produktion og salg af high-end halvlederudstyr og pan-halvlederudstyr. Virksomhedens produktdistribution Der er: CCP ætsningsudstyr, ICP ætsningsudstyr, dybt silicium ætsningsudstyr, MOCVD-udstyr, VOC-rensningsudstyr.
Blandt dem kan Prismo-serien MOCVD udstyr udviklet af China Microelectronics i vid udstrækning anvendes i produktionen af forskellige enheder baseret på gruppe III nitrider, herunder blågrønne lysdioder, dybe ultraviolette lysdioder og strømenheder. På nuværende tidspunkt er China Micros MOCVD-udstyr blevet sat i masseproduktion på de store LED-produktionslinjer i branchen.
I 2020 opnåede China Microelectronics en driftsindtjening på 2,273 milliarder yuan, en stigning fra år til år på 16,76%; nettoresultatet kan henføres til aktionærer i børsnoterede selskaber var 492 millioner yuan, en år-til-år stigning på 161,02%. I første halvdel af 2021 var China Micros driftsindtjening 1,339 milliarder yuan, en stigning fra år til år på 36,82%; nettoresultatet kan henføres til aktionærer i børsnoterede selskaber var 397 millioner yuan, en år-til-år stigning på 233,17%.
